据报道，俄罗斯已公布自主开发EUV（极紫外光刻）光刻机的路线图，目标是比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。据悉，俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源，而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV

上交所官网显示，近日武汉新芯集成电路股份有限公司的科创板IPO申请已获得受理，保荐机构为国泰君安和华源证券。新芯股份作为国内领先的半导体特色工艺晶圆代工企业，此次IPO拟募资48亿元人民币，其中4

据CNews报道，俄罗斯工业和贸易部制定了一项到2030年的电子产品生产设备进口替代的大规模计划。根据初步规划，俄罗斯将于2030年内实现65nm技术国产，同时实现对外国半导体制造设备及材料的70%的替代