Intel CFO David Zinsner近日在德意志银行2026科技大会上宣布，下一代14A制程的缺陷密度下降速度创下22nm以来的最佳表现，外部代工客户态度已从技术评估转向产能问询。Zinsner表示，Intel 14A目前的

7 月 17 日最新消息，Intel 打破原有工艺路线，提前在 18A 工艺部分层级部署 High NA EUV 光刻机，而非等到 14A 节点才全面应用。