7 月 17 日最新消息，Intel 打破原有工艺路线，提前在 18A 工艺部分层级部署 High NA EUV 光刻机，而非等到 14A 节点才全面应用。

据媒体援引知情人士消息，全球光刻机龙头企业阿斯麦启动新一轮产品涨价计划，目前已正式与台积电沟通极紫外光（EUV）光刻系统的涨价事宜，同时向部分客户下发通知，拟将深紫外光（DUV）光刻系统价格上调10%。针

7月16日，光刻机大厂ASML发布了2025年第二季度财报，营收及净利润均实现了不错的同比增长，新增订单和毛利率也高于预期。ASML在该季度还交付了首台第二代 High NA EUV 光刻机TWINSCAN EXE:5200B。但

据法国媒体LeMagIT报道，日本光学技术领导厂商 Hoya Corporation （豪雅）最近承认其遭遇了勒索软件的攻击，其总部和几个业务部门IT系统受到了影响。如果不支付1000万美元，其包括EUV掩模坯料和光掩模（光

快科技5月17日消息，原本已经落后的日本半导体制造行业近年来加快了追赶速度，去年8月份索尼、丰田等8家企业出资成立了Rapidus，计划2025年试产2nm工艺，而且很快就筹备了EUV光刻机