从7nm到5nm：国产光刻机的突破，从告别自嗨开始

大家应该都知道，我们国家的科技，在很多方面都被牵制，比如说很重要的光刻机。
那么，为什么说光刻机很重要？
光刻机（Lithography Machine），实际上是一种用于集成电路（IC）制造的关键设备。 它通过在硅片上投射光源，将芯片设计中的图案按照一定比例缩小并转移到硅片上，形成微小的电路结构。
而在半导体工业中，它的精确度和性能对于芯片制造的成功至关重要。
但我们国家，偏偏在这方面，真的被西方进行了科技垄断得很厉害。 虽然，国内一直在进行相关的研发，希望可以突破垄断，但似乎有点走歪了。
近期，光刻机市场出现了两个新动向。
首先，哈尔滨工业大学公布了一项名为"高速超精密激光干涉仪"的研发成果，该成果获得了首届"金燧奖"中国光电仪器品牌榜金奖，并有人声称解决了7纳米以下的光刻机难题。 另一个动向是国内某公司开发了SAQP技术，在不依赖EUV光刻机的前提下，实现了7纳米工艺，并且在经济方面仍有进一步的潜力，甚至可以实现5纳米工艺。
这两个消息一看，是不是觉得国内光刻机，有前途了！

确实，这些动态消息引发了许多网友和业内人士的讨论，但也引发了过度自我陶醉。
在过去的一年中，从光子芯片到量子芯片、超分辨率光刻机等等，各种绕过光刻机路线的方案曾多次引起业内的热议。
但实际上，这些路径的研究仍停留在实验室设想的阶段。 解决围绕光刻机制造和工艺层面的许多难题，不仅需要突破工艺精度，还需要在基础理论和创新方面进一步突破。
《中国科学院院刊》刊登了骆军委和李树深的文章《加强半导体基础能力建设，点亮半导体自立自强发展的“灯塔”》，也提出了以下观点：
认为中国半导体产业进入“黑暗森林”的原因主要在于，半导体领域的技术复杂度极高。 半导体产业链包括上游的EDA软件和IP模块、半导体设备和材料，中游的芯片设计、制造、封装和测试，以及下游涉及的各类电子产品，其中涉及大量的材料、化学试剂、特种气体、设备和配件等。
而在半导体产业链上游的任何一种材料、设备甚至配件都可能成为竞争对手施加制约的手段。 所以，尽管中国已经投入大量资金来发展半导体产业，但在人才储备和研发实力方面仍存在差距。
此外，供应链和知识产权等复杂问题也对产业发展构成挑战。 目前，中国在该产业链中主要扮演低端加工和组装的角色，核心技术和高端制造仍然受制于西方发达国家。
因此，从实际角度来看，中国半导体产业确实面临着困境。 虽然有一些突破性的进展和讨论，但大多数还停留在实验室层面，距离真正的突破仍然存在很大的距离。
但最后还是希望我们国家可以拥有自己的光刻机技术，不要再受制于人。